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十层剪力墙结构研发综合楼设计(有地下室)

十层剪力墙结构研发综合楼设计(有地下室)

本建筑为 办公科研楼,工程地点在 立交桥东北角,西临东二环主路与城市绿化带相连接;南隔朝外大街与外交部相望;东临为东二环辅路,与“华普”大厦和吉祥里住宅小区为邻;北侧与朝阳广场为邻。建筑用地面积为约1.8万㎡。...

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